日本Fujifilm公司及EUV Pellicle（极紫外光罩保护膜）产品介绍
日本Fujifilm最初依托感光胶片业务起步，经过多年业务转型发展为横跨医疗健康、半导体电子材料、商业数字化方案、影像四大板块的综合科技企业，半导体先进光刻配套材料是其核心优势赛道，可完整供应 EUV、ArF、KrF、电子束全波段光刻胶以及掩模配套保护膜、光刻辅助化学品，EUV Pellicle 极紫外光罩保护膜面向先进制程 EUV 光刻机掩模防护场景开发，依托自研超薄无机薄膜制备工艺，兼顾极紫外高透光、高机械强度与抗等离子辐照稳定性，适配各类 EUV 量产机型，同时配套保护膜专用清洗、修复辅助耗材，面向晶圆制造厂、掩模生产企业提供标准化保护膜与定制化薄膜改良开发服务，在先进制程光刻配套材料领域拥有完整工艺与量产交付能力。
