韩国SK Materials隶属于韩国 SK 集团，是全球知名的半导体特种化学品与电子气体供应商，可访问给出的官方网站查阅企业与产品相关资讯，企业在全球多地布局生产基地，核心业务覆盖半导体特种气体、金属有机前驱体、蚀刻材料等芯片制造关键耗材，拥有从材料纯化、配方调配到充装交付的完整产业链能力，面向存储芯片、逻辑芯片、显示器件等领域提供配套材料，持续针对先进制程迭代高纯气体的提纯与混合工艺，为半导体行业提供稳定可靠的材料供应保障。
氖气混合气主要用于半导体准分子光刻激光器，SK Materials 的氖气混合气产品分为 KrF 光刻混合气、ArF 光刻混合气两大主流系列，同时支持定制配比的特种氖混合气体，KrF 对应的氖基混合气包含 Ne‑Kr‑F 标准配比型号、Ne‑Kr‑F‑Buffer 优化配比型号，主要适配 248 纳米 KrF 准分子激光设备，气体内部杂质控制严格，保障激光输出功率的长期稳定，ArF 对应的氖基混合气包含 Ne‑Ar‑F 基础型号、Ne‑Ar‑F 高性能长寿命型号，适配 193 纳米干式与浸没式 ArF 光刻设备，混合气以超高纯氖作为主体缓冲组分，搭配氪、氩以及氟相关组分，全部经过高精度配比与杂质去除处理，另外企业还提供实验室或者特殊设备使用的小批量定制氖混合气，可按照客户设备的工况调整各组分配比，所有混合气产品都经过严格的杂质检测，采用半导体专用气瓶进行充装，能够适配不同品牌光刻机的耗材更换要求，企业还可以同步提供配套的气瓶处理、气体回收再纯化相关技术服务，满足芯片工厂量产以及工艺研发的多元使用需求。
韩国SK Materials公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：
一、光刻氖气混合气系列
1.Ne‑Kr‑F KrF 标准光刻混合气
2.Ne‑Kr‑F‑Buffer 优化型 KrF 光刻混合气
3.Ne‑Ar‑F 基础 ArF 光刻混合气
4.Ne‑Ar‑F 长寿命高性能 ArF 光刻混合气
5. 设备定制配比氖基特种混合气
二、半导体清洗气体
1.NF3 三氟化氮
2.SF6 六氟化硫
三、干法蚀刻特种气体
1.CH3F 一氟甲烷
2.C4F6 六氟丁二烯
3.CH2F2 二氟甲烷
4.CHF3 三氟甲烷
5.C4F8 八氟环丁烷
6.C2F6 六氟乙烷
7.CF4 四氟化碳
8.C2HF5 五氟乙烷
四、CVD 沉积气体
1.WF6 六氟化钨
2.SiH4 硅烷
3.Si2H6 乙硅烷
4.SiH2Cl2 二氯硅烷
五、稀有高纯惰性气体
1.HP‑Ne 高纯氖气
2.HP‑Kr 高纯氪气
3.HP‑Xe 高纯氙气
六、金属有机前驱体 MO 源
1.SK‑TMAl 三甲基铝
2.SK‑TMGa 三甲基镓
3.SK‑TMIn 三甲基铟
4.SK‑DEZn 二乙基锌
七、光刻配套耗材
1.ArF 光刻胶
2.KrF 光刻胶
八、气体配套服务产品
1. 半导体专用高压气瓶
2. 混合气定制配气服务
3. 特种气体回收纯化耗材
其他注意事项：
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。
我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。
