JSR 总部设立于日本东京，拥有多年高分子材料研发积淀，是全球半导体光刻关键材料核心供应商，业务布局先进光刻胶、多层配套光刻材料、电子功能高分子、先进封装材料等板块。企业凭借自主感光树脂、光产酸剂配方开发能力，同步推进有机化学放大极紫外光刻胶与无机金属氧化物极紫外光刻胶两条技术路线，面向先进逻辑芯片、存储芯片的精细化图形制备提供完整材料方案。除光刻胶主体材料外，配套顶部涂层、底层抗反射材料、专用工艺化学品，能够搭建一体化极紫外光刻材料堆栈，同时为晶圆制造厂商提供涂布、烘烤、曝光、显影全流程工艺调试、缺陷优化、新品评估等持续技术支持，适配前沿制程从实验室研发到大规模量产的各类应用需求。

JSR 极紫外光刻胶整体分为 EUVR 有机化学放大光刻胶与 MOR 金属氧化物无机光刻胶两大主线，适配不同工艺节点与图形类型的生产需求。EUVR 系列为成熟量产型正型化学放大光刻胶，适配常规湿法显影工艺，广泛用于先进制程逻辑与存储芯片的线条、接触孔关键层；EUVR-5010 采用短酸扩散配方，有效控制线宽粗糙度，适合高密度细线图形加工；EUVR-5030 引入金属掺杂改性设计，平衡感光灵敏度与图形分辨能力，是产线上主流评估与选用型号；EUVR-5070 依托混合树脂体系拥有更宽工艺窗口，对多样晶圆基底具备良好兼容性。MOR 金属氧化物光刻胶源自企业收购的前沿技术路线，无机骨架拥有更高极紫外光线吸收效率，能够有效降低光子噪声，实现更优异的图形粗糙度控制，面向超先进制程开展工艺预研与试产，可支撑未来更小尺寸图形开发。除光刻胶本体之外，企业同步开发适配极紫外工艺的 EFC 顶部涂层、有机抗反射底层、边缘去除液、专用显影溶剂等配套材料，形成整套光刻材料栈。面向当前量产项目，高密度细线结构优先选用 EUVR-5010，通用多层关键层可以选用 EUVR-5030，基底工况复杂场景选择 EUVR-5070；针对下一代超精细制程研发工作，可开展 MOR 系列金属氧化物光刻胶工艺评估，企业还可以提供膜厚搭配方案、图形缺陷分析以及定制化材料配方开发服务。

日本JSR Corporation公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：

一、半导体光刻胶系列

EUV 极紫外光刻胶

EUVR-5010 短酸扩散高分辨 EUV 光刻胶

EUVR-5030 金属掺杂平衡型 EUV 光刻胶

EUVR-5070 宽工艺窗口混合树脂 EUV 光刻胶

MOR-1000 系列 标准金属氧化物无机 EUV 光刻胶

MOR-2000 系列 低缺陷改良型无机 EUV 光刻胶

ArF 光刻胶（干式 / 浸润式）

AR2772JN 干式 ArF 光刻胶

AIM9310JN 浸润式线条 ArF 光刻胶

AEX4459JN 高密度接触孔 ArF 光刻胶

AEX4780J 高分辨率 ArF 光刻胶

KrF 248nm 光刻胶

V146G 通用 KrF 光刻胶

M272JN 量产型 KrF 光刻胶

M360Y 多层工艺 KrF 光刻胶

M402JB 离子注入工艺 KrF 光刻胶

M425JB 厚膜 KrF 光刻胶

i/g 线光刻胶

IX305H i 线正型光刻胶

IX420H i 线正型光刻胶

IX725D3G 离子注入专用 i 线光刻胶

IX1025L 高反射基底 i 线光刻胶

NFR105G i 线负型光刻胶

NFR107 i 线负型光刻胶

ELPAC 厚膜光刻胶（先进封装）

THB-111N 负性厚膜光刻胶

THB-126N 电镀厚膜光刻胶

THB-806P 凸块制程厚膜光刻胶

二、光刻配套多层材料

EUV 配套顶部涂层 EFC

EFC Type1 通用兼容型顶部涂层

EFC Type2 高极紫外透过率顶部涂层

ArF 浸润式顶部涂层

TCX 系列 浸润曝光防水顶部涂层

旋涂碳硬掩模 SOC

SOC 系列有机旋涂碳底层

硅基抗反射层 SiARC

SiARC 系列无机硅抗反射涂层

有机底部抗反射涂层 BARC

通用有机 BARC 系列底层材料

三、先进封装感光介电材料

WPR-5300 低翘曲感光绝缘介质

PI-1000 正性感光聚酰亚胺

PI-2000 负性感光聚酰亚胺

PI-3000 低 CTE 感光聚酰亚胺

四、半导体制程化学品

CMP 研磨液系列

CMP 后清洗溶液

半导体功能性清洗药剂

ALD/CVD 金属前驱体

自组装单层膜 SAM 药剂

光刻胶专用边缘去除溶剂

适配各波段光刻胶显影液

五、显示材料

彩色光刻阻光材料

液晶取向膜

感光间隔柱材料

OLED 薄膜封装涂层

面板平坦化层材料

六、光学解决方案材料

ARTON 环烯烃透明树脂

ARTON D4000 高耐热光学树脂

ARTON D4540 低吸水率光学树脂

ARTON F3500 通用注塑级光学树脂

相机近红外截止光学滤片

传感专用光学滤光材料

七、合成树脂材料

ABS 通用树脂

ABS 耐热树脂

ABS 阻燃树脂

AES 耐候树脂

ASA 耐候树脂

HUSHLLOY 汽车异响抑制材料

VIVILLOY 高着色聚合物合金

PLATZON 电镀改性材料

八、生命科学材料

体外诊断检测试剂

生物色谱分离树脂

生物工艺耗材

CRO 药物研发服务相关介质

CDMO 生物制造配套材料

九、配套技术服务

1. 光刻胶型号选型、膜厚搭配与工艺窗口方案设计

2. 旋涂、烘烤、曝光、显影全流程工艺参数调试

3. 关键尺寸均匀性、线宽粗糙度、图形缺陷改善指导

4. 多层光刻材料堆栈搭配方案评估

5. 先进封装介质膜工艺开发支持

6. 先进制程研发试产材料评估对接

7. 量产产线材料品质管控与稳定供应技术支持

其他注意事项：

更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。

我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。