日本JSR总部位于日本东京，拥有数十年半导体光刻材料研发积淀，是全球先进光刻胶核心供应商，业务覆盖各类波长光刻胶、多层光刻配套材料、电子功能高分子材料。在 EUV 极紫外光刻领域，同时布局化学放大有机光刻胶与金属氧化物无机光刻胶两大技术路线，面向先进逻辑、存储芯片关键图形层提供配套感光材料，配套顶部抗反射涂层、底层衬层、显影液等一体化光刻体系。企业依托自主树脂、光产酸剂配方设计能力，持续优化分辨率、感光灵敏度、线宽粗糙度三大核心指标，同时提供工艺调试、材料选型、缺陷改善、量产配套全链条技术服务，适配从研发试产到大批量晶圆制造的各类 EUV 工艺场景。

日本JSR EUV 光刻胶分为 EUVR 化学放大 CAR 有机光刻胶、MOR 金属氧化物无机光刻胶两大产品主线。EUVR CAR 系列属于量产成熟的正型化学放大光刻胶，适配湿法显影工艺，面向先进制程逻辑芯片与存储芯片的线条、接触孔关键层；EUVR-5010 主打短酸扩散体系，能够抑制图形边缘粗糙度，适合高密度细线图形；EUVR-5030 采用金属掺杂改性体系，平衡感光速度与图形分辨率，是主流量产评估型号；EUVR-5070 混合树脂配方，工艺窗口更宽，适配多样化晶圆基底。MOR 金属氧化物光刻胶继承原 Inpria 技术路线，无机主体结构具备更高 EUV 吸收效率，拥有更低粗糙度，面向下一代超先进节点研发与试产，可兼容干法显影开发方向。除光刻胶主体材料外，配套 EFC 顶部涂层、底层抗反射衬层、边缘去除液等配套材料，形成完整 EUV 光刻材料栈。7nm 至 3nm 量产项目优先选用 EUVR CAR 系列湿法显影光刻胶；追求极致分辨率、面向 2nm 及以下预研项目可评估 MOR 金属氧化物光刻胶；高密度接触孔、细线图形优先选择 EUVR-5010，通用多层关键层可选用 EUVR-5030。企业同时提供涂布、烘烤、曝光、显影全套工艺参数支持、图形缺陷分析以及定制化配方开发服务。

日本JSR公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：

一、半导体光刻胶系列

EUV 极紫外光刻胶

EUVR-5010 短酸扩散高分辨 EUV 光刻胶

EUVR-5030 金属掺杂平衡型 EUV 光刻胶

EUVR-5070 宽工艺窗口混合树脂 EUV 光刻胶

MOR-1000 系列 标准金属氧化物无机 EUV 光刻胶

MOR-2000 系列 低缺陷改良型无机 EUV 光刻胶

ArF 光刻胶（干式 / 浸润式）

AR2772JN 干式 ArF 光刻胶

AIM9310JN 浸润式线条 ArF 光刻胶

AEX4459JN 高密度接触孔 ArF 光刻胶

AEX4780J 高分辨率 ArF 光刻胶

KrF 248nm 光刻胶

V146G 通用 KrF 光刻胶

M272JN 量产型 KrF 光刻胶

M360Y 多层工艺 KrF 光刻胶

M402JB 离子注入工艺 KrF 光刻胶

M425JB 厚膜 KrF 光刻胶

i/g 线光刻胶

IX305H i 线正型光刻胶

IX420H i 线正型光刻胶

IX725D3G 离子注入专用 i 线光刻胶

IX1025L 高反射基底 i 线光刻胶

NFR105G i 线负型光刻胶

NFR107 i 线负型光刻胶

ELPAC 厚膜光刻胶（先进封装）

THB-111N 负性厚膜光刻胶

THB-126N 电镀厚膜光刻胶

THB-806P 凸块制程厚膜光刻胶

二、光刻配套多层材料

EUV 配套顶部涂层 EFC

EFC Type1 通用兼容型顶部涂层

EFC Type2 高极紫外透过率顶部涂层

ArF 浸润式顶部涂层

TCX 系列 浸润曝光防水顶部涂层

旋涂碳硬掩模 SOC

SOC 系列有机旋涂碳底层

硅基抗反射层 SiARC

SiARC 系列无机硅抗反射涂层

有机底部抗反射涂层 BARC

通用有机 BARC 系列底层材料

三、先进封装感光介电材料

WPR-5300 低翘曲感光绝缘介质

PI-1000 正性感光聚酰亚胺

PI-2000 负性感光聚酰亚胺

PI-3000 低 CTE 感光聚酰亚胺

四、半导体制程化学品

CMP 研磨液系列

CMP 后清洗溶液

半导体功能性清洗药剂

ALD/CVD 金属前驱体

自组装单层膜 SAM 药剂

光刻胶专用边缘去除溶剂

适配各波段光刻胶显影液

五、显示材料

彩色光刻阻光材料

液晶取向膜

感光间隔柱材料

OLED 薄膜封装涂层

面板平坦化层材料

六、光学解决方案材料

ARTON 环烯烃透明树脂

ARTON D4000 高耐热光学树脂

ARTON D4540 低吸水率光学树脂

ARTON F3500 通用注塑级光学树脂

相机近红外截止光学滤片

传感专用光学滤光材料

七、合成树脂材料

ABS 通用树脂

ABS 耐热树脂

ABS 阻燃树脂

AES 耐候树脂

ASA 耐候树脂

HUSHLLOY 汽车异响抑制材料

VIVILLOY 高着色聚合物合金

PLATZON 电镀改性材料

八、生命科学材料

体外诊断检测试剂

生物色谱分离树脂

生物工艺耗材

CRO 药物研发服务相关介质

CDMO 生物制造配套材料

九、配套技术服务

1. 光刻胶型号选型、膜厚搭配与工艺窗口方案设计

2. 旋涂、烘烤、曝光、显影全流程工艺参数调试

3. 关键尺寸均匀性、线宽粗糙度、图形缺陷改善指导

4. 多层光刻材料堆栈搭配方案评估

5. 先进封装介质膜工艺开发支持

6. 先进制程研发试产材料评估对接

7. 量产产线材料品质管控与稳定供应技术支持

其他注意事项：

更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。

我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。