

日本JEOL总部设立在日本东京,是全球电子光学仪器领域老牌制造企业,深耕电子束相关装备研发制造数十年,产品线覆盖电子束光刻系统、各类扫描与透射电子显微镜、聚焦离子束系统、核磁共振设备、质谱分析仪器等。企业依托自主电子枪、高精度电磁透镜、精密位移台核心技术,面向半导体掩模版制造、晶圆直接纳米图形写入、材料科学、生命科学、工业检测领域提供高端精密设备。旗下 JBX 系列电子束光刻系统分为可变成型束掩模光刻与点束直写光刻两大技术路线,适配前沿器件研发与中小规模量产场景,同时配套工艺软件、各类样品载台、真空附件以及装机调试、工艺开发、人员培训等全周期技术支持服务。
日本JEOL电子束光刻系统统一归属 JBX 产品系列,整体划分为可变成型束掩模制版设备、点束式晶圆直写光刻设备两大主线。JBX-3200MV、JBX-3050MV/S 属于可变成型束机型,专门用于光刻掩模版与光罩母版图形加工,拥有高写入效率与优异位置精度,适配不同制程规格掩模版批量制备;点束直写产品线包含新一代 JBX-A9、JBX-8100FS 系列以及前代成熟机型 JBX-9500FS、JBX-6300FS,这类机型以极小聚焦电子束直接在晶圆、石英、多种薄膜基材上绘制纳米图形,广泛用于光电子器件、射频半导体、量子元器件、MEMS、纳米压印母模研发试制。JBX-A9 作为最新一代自动化量产机型,支持大尺寸晶圆全自动上下料,兼顾分辨率与产出效率,面向前沿光通信器件中小批量生产;JBX-8100FS 提供多版本配置,具备高分辨与高通量两种工作模式,体积紧凑,适合高校、科研院所以及企业研发实验室;JBX-9500FS、JBX-6300FS 作为经典成熟机型,长期用于各类先进器件前期工艺开发。整套系统均搭载矢量扫描控制系统、高精度样品位移台,可根据基材尺寸、最小加工线宽、产能需求选择机型,掩模版生产优先选用可变成型束机型,芯片原型、纳米结构样品制备选用点束直写机型,企业同步提供图形生成软件、专用样品夹具、邻近效应修正工具以及光刻工艺方案开发支持。
日本JEOL公司主要产品型号如下,欢迎咨询选购:
一、JBX 系列电子束光刻系统
可变成型束机型(掩模版制版)
JBX-3200MV 可变成型束电子束光刻系统
JBX-3050MV/S 可变成型束电子束光刻系统
点束直写机型(晶圆纳米图形直写)
JBX-A9 新一代全自动量产电子束直写系统
JBX-8100FS G1 科研型电子束直写系统
JBX-8100FS G2 通用电子束直写系统
JBX-8100FS G3 超高分辨电子束直写系统
JBX-9500FS 高性能电子束直写系统
JBX-6300FS 研发型电子束直写系统
电子束光刻配套软件
JBX 图形曝光控制软件
邻近效应修正处理软件
图形数据转换预处理工具
设备自动化调度管理软件
光刻选配硬件附件
大尺寸晶圆自动传片模组
特种样品专用载台
光学对准观测单元
电子枪备用发射源
真空系统升级套件
光刻辅助设备
SB-89010 晶圆紫外清洁装置
二、透射电子显微镜 TEM
原子分辨率分析型 TEM
JEM-ARM300F3 GRAND ARM 3
JEM-ARM300F2 GRAND ARM 2
JEM-ARM200F NEOARM
冷冻透射电镜 Cryo-TEM
CRYO ARM 300S
CRYO ARM 200S
JEM-Z300FSC CRYO ARM 300
JEM-Z200CA CRYO ARM 200Ⅱ
通用科研型 TEM
JEM-2100Plus
JEM-120i
JEM-2800 ACE eye
三、扫描电子显微镜 SEM
场发射扫描电镜 FE-SEM
JSM-IT810
JSM-IT710HR
JSM-IT510
JSM-IT210
台式扫描电镜
NeoScope JCM-7000
四、聚焦离子束复合系统 FIB-SEM
JIB-PS500i 多束 FIB-SEM 系统
JIB-4700F 双束聚焦离子束系统
五、微区表面分析设备
JXA-8530FPlus 电子探针显微分析仪 EPMA
JAMP-9500F 俄歇电子能谱仪 AES
JPS-9200 光电子能谱仪 XPS
六、质谱分析仪器
JMS-TQ4000GC 三重四极杆气质联用仪
JMS-T2000GC AccuTOF GC-Alpha 飞行时间气质联用仪
JMS-S3000 MALDI-TOF 质谱仪
七、核磁共振波谱仪 NMR
JNM-ECZ800R
JNM-ECZ600R
JNM-ECZ400R
八、样品前处理设备
IB 系列氩离子截面抛光仪
JFDⅡ 冷冻样品制备装置
离子清洗装置 EC-52000IC
九、配套控制与分析软件
SMILE VIEW 系列图像分析软件
msFineAnalysis 质谱解析软件
透射电镜 / 扫描电镜操作控制软件
十、配套技术服务
1. 实验室场地规划、地基、供电、减震方案设计
2. 整机安装调试、设备性能标定
3. 纳米光刻、电镜表征工艺开发支持
4. 操作人员仪器实操培训
5. 半导体器件、材料科学表征方案咨询
6. 设备定期维保、故障检修与备件支持
7. 定制样品台、特殊环境改造方案对接
其他注意事项:
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取,欢迎咨询。
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