日本Hitachi High-Tech总部坐落于日本东京，是立足于精密测量、半导体制造设备、电子显微分析仪器的高科技企业，继承日立集团多年的真空、离子束、等离子体核心技术积淀，业务覆盖半导体制造、材料分析、生命科学、工业检测多个领域。企业在全球布局多处研发与生产基地，产品面向芯片制造、MEMS 器件、磁性元器件、光学器件的微纳加工，同时供应各类电子显微镜与分析检测设备，设备适配科研开发到大批量工业生产的全链条需求，能够针对不同基材、加工精度需求做工艺方案定制，配套设备调试、工艺开发、样品加工验证等技术服务，为半导体工厂、科研院所、精密器件制造企业提供整套加工与检测解决方案。

日本Hitachi High-Tech离子束刻蚀设备分为科研紧凑型、单片晶圆加工型、批量腔式量产型三大类别，依靠宽束离子源实现物理刻蚀加工，可搭配反应气体拓展反应离子束加工能力，设备平台均集成基板旋转倾斜机构、基板电位中和模块与基板冷却单元，能够适配压电材料、磁性薄膜、化合物半导体、各类介质材料的微纳刻蚀加工。科研紧凑型设备体积小巧，功能配置完整，主要面向实验室研发、小批量试样制备，可完成多种材料的工艺摸索；单片晶圆机型针对单枚基板进行加工，刻蚀条件可控性强，刻蚀均匀度表现优异，适合 MEMS、射频器件、传感器的中小批量生产；批量腔式机型搭载大尺寸离子源，腔体内部可同时装载多片基板，兼顾高均匀度与产出效率，面向打印机头、磁性器件等大规模量产场景，部分机型配备锁腔结构，减少腔体反复抽真空带来的时间损耗。不同平台可以选配终点检测模块、无灯丝微波中和器、反应气体供给组件，科研试样开发选用紧凑型设备，对单片晶圆精度有严苛要求的器件选用单片式机型，追求产能的大批量产场景选用批量腔式设备，整套设备可以适配多种尺寸基板，依靠调整离子源参数实现刻蚀速率灵活调控。

日本Hitachi High-Tech公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：

一、半导体制造设备

离子束刻蚀设备

1.IM‑150

2.ArBlade 5000

3.IM4000PLUS

4.IML‑5‑1

5.IML‑6‑1

6.IML‑8‑1

7.IML‑8‑2

8.IM‑580

等离子体刻蚀设备

1.M‑600 系列

2.M‑8170XT

3.M‑9000 系列

4.9060 系列

半导体量测 CD‑SEM

1.CG7300

2.CV7300

3.CS5000

4.GT2000

晶圆表面检测设备

1.LS9300A

2.LS9300AEG

3.RS‑5000 系列

X 射线膜厚测量设备

1.FT160

二、电子显微镜与样品制备设备

场发射扫描电镜 FE‑SEM

1.SU9600

2.SU8600

3.SU8700

4.SU5000

5.SU3900SE

6.SU3800

台式扫描电镜

1.FlexSEM 1000 II

2.TM4000III

3.TM4000PlusIII

离子铣样品制备系统

1.IM4000Ⅱ

2.IM5000

纳米探针台

1.NP8000

三、XRF 成分分析仪器

1.EA1000AIII

2.EA1400

3.X‑MET8000 Expert CG

4.HM1000A

四、生命科学分析仪器

1. 全自动临床质谱系统

2. 生物样本前处理工作站

3. 流式细胞分析设备

五、工业设备及配套零部件

1. 精密真空部件

2. 电子枪组件

3. 离子源单元

六、可选功能模块

1. 终点检测组件

2. 无灯丝微波中和器

3. 反应气体供给组件

4. 基板水冷与气冷单元

5. 基板旋转倾斜工装

6. 锁腔上下料单元

七、配套技术服务

1. 刻蚀工艺开发

2. 工装夹具定制

3. 工艺参数调试

4. 样品代加工验证

5. 设备现场安装调试

6. 工艺培训与维护服务

其他注意事项：

更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。

我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。