日本Canon Nanotechnologies 是佳能集团旗下专注纳米压印光刻核心技术的子公司，前身是美国 Molecular Imprints 企业，佳能完成收购后整合自身精密光学、精密机械、流体喷射技术，聚焦 J-FIL 喷射闪式纳米压印光刻系统研发、整机制造、掩模复刻设备与配套工艺耗材开发，核心业务面向先进逻辑芯片、存储半导体、超构透镜、MEMS 微纳器件、光学衍射元件提供纳米压印整体制程方案。企业依托自研高精度对位、洁净腔体颗粒管控、光刻胶精准喷射涂布核心技术，搭建量产型晶圆纳米压印整机、掩模母版复刻设备两大产品主线，在美国与日本设立工艺开发中心与量产装配基地，配套掩模制备、压印胶配方、量产工艺调试全链条技术服务。产品规避传统光刻复杂光学镜头与特殊光源结构，以低功耗、高精度图形复刻、三维结构一次成型为核心优势，兼顾先进芯片量产与新型光电器件研发场景，持续完善压印设备的多层套刻精度、颗粒缺陷控制与量产吞吐量，适配先进存储芯片、下一代逻辑芯片、AR 超构透镜等前沿器件的微纳图形制备需求。
日本Canon Nanotechnologies纳米技术纳米压印设备分为 FPA-1200NZ2C 量产级晶圆纳米压印光刻机、FPA-1100NR2 压印掩模复刻专用设备两大核心机型，全部基于 J-FIL 喷射闪式纳米压印架构打造，FPA-1200NZ2C 是面向 12 英寸 300 毫米晶圆商业化量产的旗舰纳米压印集群设备，压印视场尺寸固定为 26 毫米乘 33 毫米，适配六英寸规格压印掩模，整机双工位架构布局，设备整体长宽高尺寸适配晶圆厂标准洁净车间布局，多层套刻叠加对位精度控制在四纳米以内，原生实现最小 14 纳米图形线宽复刻，对应半导体五纳米制程芯片图形制备，依托掩模工艺迭代可进一步实现 10 纳米线宽图形成型，等效适配两纳米制程工艺开发。设备搭载 IntelliJet 高精度光刻胶喷射涂布系统，可按需定点定量喷涂压印胶，减少胶材损耗与整片晶圆胶层厚度不均问题，内部搭载全域温湿度与颗粒密闭管控系统，大幅降低微颗粒带来的压印缺陷，单次压印工序即可完成二维精细线路或是三维立体微纳结构成型，整机运行功耗仅为高端极紫外光刻设备的十分之一，适配大容量闪存、先进逻辑芯片量产，同时可拓展用于超构透镜、衍射光学元件、微型流控芯片等特种器件加工，设备集成晶圆自动上下料、掩模存储、在位掩模颗粒检测、透过掩模实时对位检测模组，可接入工厂自动化产线实现连续量产作业，设备配套专用紫外固化光源完成压印胶固化定型，长期运行图形均匀性与尺寸稳定性适配工厂不间断量产工况。FPA-1100NR2 专注纳米压印母版掩模的复刻制备，采用 365 纳米紫外固化光源，最大支持 300 毫米幅面母版加工，复刻后掩模关键尺寸均匀度误差控制在 0.8 纳米，图形定位精度达到 1 纳米级别，单张复刻掩模整体颗粒缺陷数量极低，量产掩模复刻节拍稳定，用于量产产线消耗型工作掩模批量制备，避免高端母版掩模直接上机量产造成损耗，既降低高端母版使用频次，又保障产线压印图形一致性，设备支持刚性基板母版复刻工艺，可对接电子束光刻制备的原始母版完成批量复制，适配半导体量产线掩模耗材循环供给。两款设备均可搭配佳能配套压印光刻胶、清洁耗材、对位校准工艺包，量产芯片产线选用 FPA-1200NZ2C 完成晶圆图形压印，掩模制造中心采用 FPA-1100NR2 实现工作模板批量复制，二者组合形成完整纳米压印量产工艺闭环，同时设备支持定制化改造，兼容透明基板、超薄柔性基板等特殊基材压印加工，适配多元化微纳器件研发与小批量试制需求。
日本Canon Nanotechnologies公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：
一、量产型晶圆纳米压印光刻整机（J-FIL 架构）
FPA-1200NZ2C 12 英寸晶圆量产纳米压印集群设备
二、纳米压印掩模复刻专用设备
FPA-1100NR2 纳米压印母版掩模复制设备
三、设备核心功能选配模组
IntelliJet 高精度喷墨涂布模组
TTM 透过掩模对位检测模组
365nm 紫外固化光源单元
晶圆全自动 EFEM 前端传送模组
掩模在位颗粒检测模块
四、纳米压印配套工艺耗材
J-FIL 专用紫外固化纳米压印光刻胶
硬质母版压印模具
量产型工作版复刻掩模
腔体洁净保养耗材套件
五、工艺控制与检测软件系统
NIL Process Suite 整机工艺控制软件
Moiré 套刻精度解析软件
压印图形缺陷检测分析软件
其他注意事项：
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。
我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。
