德国 ALLRESIST 是来自德国的专业微纳加工光刻化学品研发制造企业，专注各类光刻胶、配套工艺化学品的开发与量产，面向科研机构与微加工产业提供适配紫外光刻、电子束光刻、X 射线光刻的抗蚀材料。企业拥有成熟的定制配方开发能力，可根据客户特殊工艺需求调整光刻胶配方，兼顾实验室小批量试样与工业化生产供货，产品覆盖半导体、微机电系统、光子器件、生物微流控芯片等领域，同时配套附着力促进剂、基底保护涂层、专用显影液等辅助材料，持续推进高分辨率、厚胶、耐高温等特殊光刻材料的技术迭代，为高精度微结构制备提供完整材料方案。
ALLRESIST 特殊光刻胶产品分为电子束专用光刻胶、厚膜紫外光刻胶、高温耐受光刻胶、热显影特种光刻胶、剥离工艺专用光刻胶五大主线，电子束光刻胶产品线包含 AR-P 630 至 670 系列 PMMA 基正胶，依托不同分子量基材适配纳米级图案制备，搭配 AR-P 6200 也就是 CSAR 62 高对比度电子束光刻胶，具备优秀的等离子刻蚀耐受能力，AR-P 8100 系列 Phoenix 81 属于热扫描探针光刻专用胶，无需常规化学显影，可实现超高分辨率微结构加工；厚膜光刻胶以 AR-N 4600 系列 Atlas 46 负胶为代表，能够实现大厚度胶层成型，适配 LIGA 工艺、电镀微结构制备，AR-N 4400 系列广谱感光负胶可同时兼容紫外、电子束、X 射线多种曝光方式；高温耐受光刻胶包含 SX AR-P 3500/8 型号，热稳定性突出，可承受高温工艺工况，适合离子注入、高温等离子刻蚀场景；剥离工艺专用光刻胶包含多层工艺适配型号，能够形成利于金属剥离的剖面结构；另外产品线还包含 AR-N 7520 系列耐高温电子束负胶，曝光成型后的胶膜可耐受较高工艺温度，整套光刻胶可选不同固含量规格调整旋涂厚度，溶剂体系区分传统溶剂与低风险环保溶剂，工艺人员可以结合曝光光源、目标胶层厚度、后续工艺温度与加工方式挑选对应型号，广泛应用纳米器件、微传感器、光子晶体、微流控芯片、掩模版制造等前沿微纳加工场景。
德国 ALLRESIST公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：
一、正性紫外光刻胶（Positive Photoresist）
AR-P1200 喷涂型光刻胶系列
AR-P1200
AR-P3100 通用正胶系列
AR-P3100
AR-P3200 高分辨率正胶系列
AR-P3200
AR-P3500 (T) 厚胶电镀型光刻胶
AR-P3510(T)
AR-P3540(T)
SX AR-P3500/8 高温耐受型
AR-P3700/3800 超高对比度精细光刻胶
AR-P3740
AR-P3840
AR-P5300 剥离工艺专用光刻胶
AR-P5300
AR-P5900 耐氢氟酸特种光刻胶
AR-P5910
二、负性紫外光刻胶（Negative Photoresist）
AR-N2200 喷涂负胶系列
AR-N2210
AR-N2220
AR-N2230
AR-N4200 深紫外高灵敏负胶
AR-N4240
AR-N4340（CAR44）通用高灵敏负胶
AR-N4340
SX AR-N4340/7 高温稳定型
AR-N4400 厚层电镀负胶（CAR44）
AR-N4400-05
AR-N4400-10
AR-N4400-25
AR-N4400-50
AR-N4600（Atlas46）超厚结构光刻胶
AR-N4600-10
三、图像反转光刻胶
AR-U4000 反转光刻胶系列
AR-U4030
AR-U4040
AR-U4060
四、电子束光刻胶（E-Beam Resist）
PMMA 基电子束胶 AR-P679 系列
AR-P679.01
AR-P679.02
AR-P679.03
AR-P679.04
共聚物高灵敏电子束胶
AR-P617
CSAR62
Novolac 基电子束胶
AR-N7500
AR-N7520
AR-N7700
AR-N7720
Medusa 硅基高耐蚀电子束胶
SX AR-N8200（Medusa82）
SX AR-N8250
SX AR-N8400（Medusa84 SiH）
双层剥离底层电子束胶
AR-P8100
五、双层剥离工艺底层胶
AR-BR 底层剥离胶系列
AR-BR5460
AR-BR5480
AR-BR5640
六、光刻保护涂层（Protective Coating）
AR-PC 防护涂层系列
AR-PC503
AR-PC504
AR-PC5040
AR-PC5092.02（Electra92）
AR-PC5094.02（Electra94）
七、光刻配套化学品
显影液
X AR600-50/2 显影液
稀释剂
X AR300-74/1 光刻胶稀释剂
终止液
X AR600-60/1 显影终止液
其他注意事项：
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。
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