TRUMPF是一家全球领先的德国高科技企业，成立于1923年，总部位于斯图加特附近的迪琴根（Ditzingen）。公司专注于工业激光技术、机床、电子设备及智能制造解决方案，产品广泛应用于汽车、航空航天、电子、医疗等行业。TRUMPF在激光技术领域尤其突出，是全球极少数能提供极紫外（EUV）光刻机所需激光光源的供应商之一，支撑半导体制造中的先进制程（如7nm及以下芯片生产）。

TRUMPF EUV激光光源产品

TRUMPF为ASML的EUV光刻系统提供关键的 CO₂激光等离子体（LPP）光源 技术。以下是其EUV相关核心产品与技术：

1. EUV激光放大器

型号：TRUMPF CO₂激光放大器系列

用于激发锡滴产生等离子体，生成13.5nm波长的EUV光。

高功率、高稳定性，支持ASML的NXE系列EUV光刻机。

2. 预脉冲激光系统

功能：通过YAG激光器对锡滴进行预整形，确保CO₂主激光高效激发等离子体。

EUV光刻系统，其激光光源技术是EUV光刻机的核心组件之一。

注意事项

TRUMPF直接公开EUV激光光源的详细型号参数（因涉及尖端技术保密）。

TRUMPF在EUV领域的激光技术主要基于高功率CO₂激光系统（如30kW级激光器），具体型号可能以定制化方案为主。

更详细的EUV技术资料需通过来提供项目详情获取，欢迎咨询。