Wonik IPS是韩国领先的半导体设备制造企业，成立于2000年（部分资料显示其前身可追溯至更早的研发阶段），总部位于京畿道龙仁市。公司专注于半导体、显示器及新能源领域的高端设备研发与生产，核心业务包括：

半导体设备

全球首家成功量产原子层沉积（ALD）设备，并在化学气相沉积（CVD）、金属沉积（METAL）及扩散工艺设备领域占据重要地位。

在3D NAND闪存和DRAM高介电常数（High-K）材料工艺设备市场表现突出，尤其在10纳米级工艺技术上具备竞争力。

显示设备

提供干法蚀刻机（Dry Etcher）和等离子增强化学气相沉积（PE-CVD）设备，服务于OLED等高端显示面板制造。

新能源与激光技术

布局太阳能电池设备（单晶/多晶）及高功率激光器，应用于材料加工和医疗领域。

技术合作与创新

与斗山能源合作开发金属3D打印技术（AM），用于半导体设备的零部件制造；累计申请专利超3000件，注册850余件。

韩国Wonik IPS的锂电池专用露点传感器，若需更详细的技术资料需通过来提供项目详情获取，欢迎咨询。

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