美国Stanford Advanced Materials简称 SAM，是来自美国的全球先进材料供应商，企业面向科研机构与工业客户供应各类金属、合金、陶瓷、晶体、复合材料等前沿材料，产品覆盖真空镀膜、高温冶金、3D 打印、半导体、医疗以及航空航天等诸多领域，既可以提供实验室小批量试样，也能够承接工业化量级的物料供货，同时支持各类特殊规格材料的定制开发，为不同领域的研发与生产提供材料支撑。

美国Stanford Advanced Materials的溅射靶材分为高纯金属靶材、合金靶材、氧化物陶瓷靶材，还包含平面型靶材与旋转靶材两种结构形态，ST‑M01 属于通用高纯铝溅射靶材，晶粒组织均匀，适配半导体金属化薄膜制备，ST‑M02 高纯铜靶材致密度高，多用于导电薄膜沉积，ST‑M03 高纯钽靶材具备优秀耐蚀特性，适合阻挡层薄膜工艺，ST‑A01 镍铬合金靶材成分比例稳定，常用来制备电阻薄膜，ST‑A02 钛钨合金靶材用作扩散阻挡层，ST‑A03 钴铁硼合金靶材面向磁性薄膜相关研究，ST‑C01 氧化铟锡陶瓷靶材为透明导电薄膜的常用材料，ST‑C02 氧化锌陶瓷靶材用于光电类薄膜制备，ST‑R01 旋转铝靶、ST‑R02 旋转钛靶适配大面积连续镀膜产线，企业同样可以按照客户的成分、纯度、外形尺寸、绑定基底要求完成靶材的定制，全部靶材会管控材料纯度、致密度以及晶粒状态，支持无绑定以及铜背板绑定的交付形式，既可以满足实验室磁控溅射设备的小试样需求，也适配面板、光伏、半导体产线的批量镀膜工况。

美国Stanford Advanced Materials公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：

一、溅射靶材系列

1.ST‑M01 高纯铝溅射靶材

2.ST‑M02 高纯铜溅射靶材

3.ST‑M03 高纯钽溅射靶材

4.ST‑M04 高纯钨溅射靶材

5.ST‑M05 高纯钛溅射靶材

6.ST‑A01 镍铬合金溅射靶材

7.ST‑A02 钛钨合金溅射靶材

8.ST‑A03 钴铁硼合金溅射靶材

9.ST‑C01 氧化铟锡陶瓷溅射靶材

shtur‑C02 氧化锌陶瓷溅射靶材

11.ST‑R01 旋转铝溅射靶材

12.ST‑R02 旋转钛溅射靶材

13. 客户定制各类材质溅射靶材

二、金属与合金坯料制品

1. 钼及钼合金板材、棒材、箔材、坩埚

2. 钽铌板材、丝材、棒材、紧固件

3. 钨及钨合金加工件

4. 铂贵金属丝材、片材

5.TZM、Mo‑La 高温合金制品

三、球形 3D 打印金属粉末

1. 球形钛合金粉末

2. 球形镍基高温合金粉末

3. 球形钴铬合金粉末

4. 定制球形金属粉体

四、陶瓷制品

1. 氧化锆陶瓷坩埚、研磨罐

2. 热解氮化硼 PBN 坩埚

3. 氧化铝陶瓷零部件

五、蒸发镀膜材料

1. 高纯金属蒸发颗粒

2. 合金蒸发料

3. 化合物蒸发源材料

六、晶体与衬底材料

1. 激光晶体基材

2. 氧化物单晶衬底

3. 半导体化合物晶体

七、稀土与无机化工原料

1. 稀土金属及稀土氧化物粉体

2. 透明质酸钠粉体

3. 各类高纯无机化合物

八、磁体组件

1. 哈尔巴赫磁阵列组件

2. 定制永磁装配套件

九、定制研发服务

1. 异形机加工零部件定制

2. 靶材背板绑定加工服务

3. 特殊成分合金与粉体定制

4. 靶材回收再加工服务

其他注意事项：

更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。

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