日本Shin-Etsu是来自日本的综合性高新材料企业可访问给出的官方网站查阅企业与产品相关资讯，企业业务横跨半导体电子材料、有机硅材料、基础化工、特种功能材料等诸多领域，拥有完整的材料合成、配方开发、高纯制造以及全球技术服务能力，半导体硅片、光刻胶、合成石英、有机硅等多款产品在全球供应链当中占据重要地位，面向芯片制造、电子电气、新能源、日化、基建等众多行业输出关键原材料，依靠自研的高分子合成技术不断迭代新产品，适配不同行业的严苛品质要求。
日本Shin-Etsu的 KrF 光刻胶以 SEPR 系列为核心，全部产品为化学放大型光刻胶，分为正性胶与负性胶两大方向，适配 KrF 曝光机台的半导体晶圆光刻工艺，正胶产品包含面向常规逻辑器件的通用型号，侧重图形分辨率与侧壁形貌，能够满足刻蚀以及离子注入工艺的掩模需求，还有面向存储芯片的厚膜型号，可形成厚度较高的光刻胶膜层，适配三维存储器件的高深宽比图形加工，负性胶包含金属剥离工艺专用型号以及厚层负胶，剥离型产品可以形成倒梯形的胶层剖面，方便后续金属薄膜的剥离作业，厚层负胶拥有优秀的耐刻蚀能力，系列内不同型号在感光树脂主体、光致产酸剂配比、添加剂体系上存在差异，以此分别调整分辨率、感光灵敏度、耐干法刻蚀性能、涂布平整性以及工艺窗口，全部产品都严格管控金属杂质含量，满足半导体制造的高纯要求，部分型号还搭配配套的抗反射涂层产品，用来抑制晶圆表面的光反射干扰，减少图形畸变，企业还可以根据客户的曝光设备、膜厚需求、器件工艺，提供针对性的产品选型与工艺调试支持，适配逻辑芯片、存储芯片、功率半导体等不同芯片产品的生产加工。
日本Shin-Etsu公司主要产品型号如下，欢迎咨询选购：
一、KrF 光刻胶系列
1.SEPR‑402
2.SEPR‑500
3.SEPR‑602
4.SEPR‑701
5.SEPR‑I032
6.SEPR‑I382
7.SAIL‑G21
8.SAIL‑G24C
9.SAIL‑G28
二、ArF 光刻胶系列
1.SEVR‑1000
2.SEVR‑2000
3.SEVR‑3000
4.SEVR‑4000
5.SEVR‑i9300
6.SEVR‑i9500
7.SEVR‑i9700
三、i‑line/g‑line 光刻胶
1.SIPR‑3251
2.SEPR‑I801
3.SEPR‑I803D
四、光刻配套抗反射涂层
1.SH‑BARC‑A100
2.SH‑BARC‑B200
3.SH‑BARC‑N300
五、半导体硅片
1.300mm 单晶硅抛光片
2.200mm 单晶硅抛光片
3.150mm 单晶硅抛光片
4. 外延硅片
5.SOI 绝缘层硅片
六、化合物半导体外延片
1.GaAs 外延晶圆
2.GaP 外延晶圆
3.InP 外延晶圆
七、半导体封止环氧材料
1.KMC‑180
2.KMC‑184
3.KMC‑188
4.KMC‑289
八、有机硅油及改性硅油
1.KF‑96 系列二甲基硅油
2.KF‑867S 氨基改性硅油
3.KF‑6038 聚醚改性硅油
4.KF‑7312J 苯基硅油
九、RTV 硅橡胶
1.KE‑1897 双组份导热硅胶
2.KE‑3417 耐热密封硅胶
shtu‑4962‑W 导热密封胶
4.SCR‑101 灌封硅胶
十、导热硅脂
1.X‑23‑7783D
2.G‑750
3.G‑775
4.G‑777
十一、硅烷偶联剂
1.KBM‑602
2.KBM‑603
3.KBM‑903
4.KBE‑402
十二、稀土磁性材料
1. 稀土永磁磁体
2. 稀土氧化物粉体
3.KSF 荧光粉
十三、合成石英制品
1. 石英晶圆载具
2. 石英扩散管
3. 石英窗口镜片
十四、锂电池负极硅基材料
1.Si‑Powder 系列硅碳负极粉体
2.Si‑Composite 复合负极材料
十五、纤维素衍生物 METOLOSE
1.METOLOSE SM 系列
2.METOLOSE SH 系列
十六、PVA 聚乙烯醇
1.POVAL 通用级
2.POVAL 特种改性级
其他注意事项：
更详细的技术资料需通过提供项目详情获取，欢迎咨询。
我公司自营进出口权，直接海外采购，国外现货航空件几天就能交到您的手中。
